俄罗斯突破技术封锁：自主研发350nm光刻机成功进入批量生产阶段

9月13日消息，据报道，俄罗斯正在将其首台自主研发的350纳米光刻机投入批量生产，首台Progress STP-350计划于2026年12月交付莫斯科Mapper公司。这标志着俄罗斯重建本土半导体设备产业的重要里程碑。

第二台机器计划交付给Element集团旗下的Industry Solutions公司。更值得关注的是，俄罗斯已在着手研发130纳米光刻技术，首台350纳米光刻机或将成为其更大规模半导体设备研发进程的开端。

泽列诺格勒纳米技术中心（ZNTC）与白俄罗斯公司Planar合作，开发了用于350纳米工艺节点半导体生产的新型系统。尽管350纳米工艺不如当前先进制程，但它对工业电子、功率器件、汽车零部件和专用传感器仍至关重要。

计划于12月交付的设备，目的不仅是新增一台工厂设备，更在于表明俄罗斯已完成从实验室研发到光刻系统批量生产的过渡。

Mapper是首家客户，隶属于俄罗斯国家技术集团公司（Rostec），并通过Shvabe控股公司与该公司关联。Element集团旗下Industry Solutions计划接收第二套量产系统。两套系统将分别整合到与俄罗斯国内微电子生态系统相关的企业中。

Progress STP-350是一款投影式步进光刻机，可将光掩模上的图案转移到半导体衬底上。其曝光区域尺寸为22毫米 x 22毫米，工艺分辨率为350纳米。该设备更适合成熟节点半导体制造，而非尖端逻辑器件生产，因为它能够处理直径达200毫米的晶圆。

俄罗斯宣布，下一代国产光刻系统预计将于2027年投入使用，该系统能够生产130纳米芯片。从350纳米过渡到130纳米，将大幅扩展俄罗斯国内可开发的半导体应用范围。